IPS InLineⓡ의 활용 - ③
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IPS InLineⓡ의 활용 - ③
  • zero 편집팀
  • 승인 2015.05.21 16:00
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IPS InLineⓡ의 세계

 

IPS InLineⓇ 메탈-세라믹 시스템을 사용해, 간단한 Layering에서 복잡하고 심미적인 Veneer까지 오늘날 일상적인 기공작업에 필요한 유연성을 가지는 적용법에 대해 알아본다.

1차 Opaquer 소성 (Wash 소성)
해당하는 치아 쉐이드의 IPS InLine System Opaquer Paste를 선택한다.
필요할 경우, 용기에서 덜어내기 전 잘 섞어 Opaquer 페이스트를 균질화한다. 시린지 또는 용기에서 필요한 양을 짜내고 혼합패드 위에서 완전히 혼합하며 필요할 경우, 얇게 한다.
첫 번째 Opaquer 층을 얇게 도포하고 합금 표면에 문지른다. 소성과 냉각 후, 불투명 처리된 메탈 framework을 steam jet을 사용해 세척하고 완전히 건조시킨다.

 
 

2차 Opaquer 소성
두 번째 Opaquer 층을 Opaquer가 메탈 framework을 완전히 덮도록 적용한다. 소성 후 IPS InLine System Opaquer는 표면을 완전히 덮는, 부드럽고 광택이 없는 표면을 보여야 한다. Opaquer 소성 후 합금 framework은 Opaquer로 완전히 덮어야 한다.

 
IPS Inline System Opaquer의 소성 변수 (1차와 2차 Opaquer 소성)

 

1차 dentcisal 소성
Dentcisal 재료를 축성하기 전 모델을 격리한다. 도재가 건조되거나 모델에 달라붙는 것을 방지할 수 있다.
IPS Model Sealer을 사용해 석고 다이와 인접면 부위를 격리한다. 추가적으로, IPS Ceramic Separating Liquid를 사용해 Pontic 부위를 분리한다.

 

Tip 도재와 Opaquer 표면 사이에서 최적의 결합을 얻기 위해 소량의 IPS InLine Dentcisal 재료를 (Bridge를 위한) 치경부와 치간부에 적용한 후 약간 거칠게 만든다.

소성 후 실제 치아 형태가 얻어지도록 수복물이 약간 큰 윤곽을 가지게 한다. Bridge를 모델에서 분리시킨 후, Dentcisal 재료로 접촉점을 보충한다. 소성 전, 전체 치간 부위를 Opaquer까지 분리한다.

Tip 소성 전 크고 건조한 브러시를 사용해 치경부 마진 방향으로 도재 표면의 밀도를 높인다(윤곽 형성 후).

도재는 개별적인 상황에 따라 적용한다.
최적의 소성결과를 위해, 치간 부위는 반드시 Opaquer까지 분리한다.
1차 Dentcisal 소성 후 수복물
 

중요
• 혼합되거나 이미 적용된 축성 재료를 다시 적시기 위해 증류수를 사용한다.
• 수복물이 올려진 소성 트레이는 퍼니스 헤드가 완전히 열리고 신호음이 울린 후에만 소성실에 위치될 수 있다.

 

2차 dentcisal 소성
마무리한 후 수복물을 흐르는 물 또는 Steam jet을 사용해 완전히 세척한다.
수복물을 1 bar (15 psi)의 압력으로 Al₂O₃(type 50)를 사용해 분사하는 것은 세척 후 표면에 오염이 있는 경우에만 필요하다. 수복물을 완전히 건조하고 손실된 부분을 완성한다.
접촉점뿐 아니라 치간 공간에 특별한 주의를 기울인다. 완전히 축성된 수복물을 소성 트레이 위에 올려놓고 충분한 지지를 확인한다.
수복물이 올려진 소성 트레이는 퍼니스 헤드가 완전히 열리고 신호음이 울린 후에만 소성실에 위치될 수 있다. 수복물을 소성하기 위해 아래에 규정된 소성 변수를 사용한다.

Dentcisal 재료를 사용한 수복물의 보충
교합면의 최종 디자인

중요
. 혼합되거나 이미 적용된 축성 재료를 다시 적시기 위해 증류수를 사용한다.
. 수복물이 올려진 소성 트레이는 퍼니스 헤드가 완전히 열리고 신호음이 울린 후에만 소성실에 위치될 수 있다.

2차 denticisal 소성의 소성 변수

 

개별적인 마무리
Stain과 Glaze 소성을 위한 마무리와 준비
Stain과 Glaze 소성 전, 수복물은 다음과 같이 준비되어야 한다.
- 다이아몬드 연마기구를 사용해 수복물을 마무리하고 발육선과 볼록하고/오목한 부위 등의 실물과 같은 형태와 표면 구조를 부여한다.
- Glaze 소성 후 더 높은 광택을 보여야 하는 부위 (예. Pontic rest)는 Silicon disk를 사용해 부드럽게 되고 미리 광택이 주어질 수 있다.
- 표면질감을 시각화하기 위해 금 또는 은가루가 사용되었을 경우, 수복물은 Steam으로 완전히 세척되어야 한다. 소성 후 변색을 방지하기 위해 금 또는 은가루를 완전히 제거한다.

Stain과 characterization 소성
Stain과 Characterization 소성 전, 수복물은 반드시 먼지와 기름이 없어야 하며 세척 후에는 어떠한 오염도 방지해야 한다.
다음의 단계들을 반드시 지켜야 한다.
- Stain의 더 나은 습윤을 위해 IPS InLine/IPS InLine PoM Glaze and Stains liquid가 표면에 얇게 적용될 수 있다.
- 조금 더 강조된 쉐이드 효과가 필요할 경우, 이것은 몇 차례의 Staining 과정과 반복된 소성으로 얻어질 수 있다. 너무 많은 Stain의 적용은 부자연스러운 쉐이드 효과의 결과를 가져올 수 있다.
- 교두와 열구는 Stain을 사용해 개별화될 수 있다.

 

IPS Inline System Shade와 Stain을 사용한 쉐이드 조정
이러한 Stain들은 별도의 Stain 소성으로 소성될 수 있다. 미세한 쉐이드 조정과 개별적인 특성화는 Glaze 소성으로도 소성될 수 있다.
IPS InLine System Shade의 필요한 양을 짜내고 원하는 점도까지 IPS InLine System Glaze and Stains Liquid를 사용해 희석하고 혼합한다. 고이는 것을 피하고, 재료가 너무 두껍게 도포되지 않도록 한다. 만약 조금 더 강조된 쉐이드 효과가 필요할 경우, 이것은 수 차례의 Staining 과정 및 반복된 소성으로 얻어질 수 있다. 너무 많은 Stain의 적용은 부자연스러운 쉐이드 효과를 결과를 가져올 수 있다.

IPS Inline System Shade/Stains 소성 (Stain과 characterization 소성)을 위한 소성 변수

추가적인 Stain과 characterization 소성 주기가 동일한 변수를 사용해 실행될 수 있다.

Glaze 소성
IPS InLine System Shade/Stain을 사용한 Stain과 Characterization 소성 후, Glaze 소성이 실행된다.
- 필요할 경우, 용기에서 덜어내기 전 잘 섞어 Opaquer 페이스트를 균질화한다.
시린지 또는 용기에서 IPS InLine System Glaze Paste의 필요한 양을 짜내고 혼합패드 위에서 완전히 혼합한다. 다른 점도가 필요할 경우, IPS InLine System Glaze and Stains Liquid로 희석해 점도를 조정한다.
그 후, 브러시를 사용해 일반적인 방법으로 Glaze 재료를 적용한다. Glaze 재료를 너무 두껍거나 너무 얇은 층으로 도포하지 않도록 주의한다.
- 미세한 쉐이드 조정은 Glaze 소성으로 실행될 수 있다.
만약 1차 Glaze 소성 후 광택이 만족스럽지 않을 경우, 추가 Glaze 소성 과정이 동일한 변수를 사용해 실행될 수 있다.

 

Glaze 소성 후 add-On
IPS InLine System Add-On 690 °C/1274 °F 재료를 필요한 Build-up 용액과 혼합하고, 손실된 부위에 적용한 후 소성한다.

 
 

<다음호에 계속>


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